Síntese de Filmes de Carbono a Plasma: Produção de Filmes de Carbono por meio de Processos a Plasma para Aplicação em Células Solares

Este trabalho visou, por meio de processos a plasma, depositar filmes finos de carbono em determinados substratos (vidro, silício e vidro recoberto com FTO) e então corroê-los em plasma de SF6 combinado ora com H2, O2, e Ar a fim de se aumentar a rugosidade e consequentemente a área de contato desses filmes com o eletrólito de uma célula solar sensibilizada por corante (DSSC). Os filmes produzidos foram caracterizados e estudados por meio de análises de perfilometria, MEV, DRX, XPS, AFM, RAMAN, FTIR, goniometria e medida de resistência de folha por 4 pontas. Essas análises mostraram que os filmes que passaram pelo processo de texturização a plasma obtiveram um padrão nano estrutural característico para cada combinação de gases utilizados. A análise de goniometria mostrou que o TT fez com que os filmes depositados se tornassem hidrofóbicos. Porém, após submetê-los ao processo de texturização a plasma eles se tornaram super hidrofílicos. Tais resultados (aumento de rugosidade e hidrofilicidade) são de grande importância para a aplicação desses filmes em contra eletrodos de DSSCs.

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